WEKO3
アイテム
Low Temperature Annealing Techniques for Solution Processed Amorphous Oxide Semiconductor Thin-film Transistors
https://doi.org/10.34413/dr.01626
https://doi.org/10.34413/dr.016261281530a-f4fc-4187-9d48-2654462dee21
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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abstract (106.8 kB)
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fulltext (2.8 MB)
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| Item type | 学位論文（博士論文） / Thesis or Dissertation(1) | |||||
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| 公開日 | 2019-07-04 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Low Temperature Annealing Techniques for Solution Processed Amorphous Oxide Semiconductor Thin-film Transistors | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Amorphous Oxide Semiconductors | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Low Temperature Annealing | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Channel Activation | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Thin-film Transistors | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Wet Annealing | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ | doctoral thesis | |||||
| ID登録 | ||||||
| ID登録 | 10.34413/dr.01626 | |||||
| ID登録タイプ | JaLC | |||||
| アクセス権 | ||||||
| アクセス権 | open access | |||||
| その他のタイトル | ||||||
| その他のタイトル | 低温アニーリング技術による、溶液処理アモルファス酸化物半導体薄膜トランジスタ | |||||
| その他のタイトル | ||||||
| その他のタイトル | テイオン アニーリング ギジュツ ニ ヨル 、 ヨウエキ ショリ アモルファス サンカブツ ハンドウタイ ハクマク トランジスタ | |||||
| 著者 |
Jallorina, Michael Paul Aquisay
× Jallorina, Michael Paul Aquisay |
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| 書誌情報 |
発行日 2019-06-30 |
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| 出版者 | ||||||
| 出版者 | Nara Institute of Science and Technology | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||
| 学位名 | ||||||
| 学位名 | 博士(工学) | |||||
| 学位授与機関 | ||||||
| 学位授与機関名 | 奈良先端科学技術大学院大学 | |||||
| 学位授与年月日 | ||||||
| 学位授与年月日 | 2019-06-30 | |||||
| 学位授与番号 | ||||||
| 学位授与番号 | 甲第1626号 | |||||
| 電子化ID | ||||||
| R015734 | ||||||
| 電子化ID | ||||||
| R015728 | ||||||
