WEKO3
アイテム
Development of Laser Doping Process at Room Temperature for High Efficiency Crystalline Silicon Solar Cell Fabrication
https://doi.org/10.34413/dr.01275
https://doi.org/10.34413/dr.01275aabe58e7-20c3-43e2-b52a-d38df440cc1f
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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fulltext (10.4 MB)
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abstract (86.9 kB)
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Item type | 学位論文(博士論文) / Thesis or Dissertation(1) | |||||
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公開日 | 2015-06-29 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | Development of Laser Doping Process at Room Temperature for High Efficiency Crystalline Silicon Solar Cell Fabrication | |||||
言語 | en | |||||
言語 | ||||||
言語 | eng | |||||
キーワード | ||||||
言語 | ja | |||||
主題Scheme | Other | |||||
主題 | 結晶シリコン | |||||
キーワード | ||||||
言語 | ja | |||||
主題Scheme | Other | |||||
主題 | 太陽電池 | |||||
キーワード | ||||||
言語 | ja | |||||
主題Scheme | Other | |||||
主題 | レーザープロセス | |||||
キーワード | ||||||
言語 | ja | |||||
主題Scheme | Other | |||||
主題 | 高効率化 | |||||
キーワード | ||||||
言語 | ja | |||||
主題Scheme | Other | |||||
主題 | ドーピングプロセス | |||||
資源タイプ | ||||||
資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_db06 | |||||
資源タイプ | doctoral thesis | |||||
ID登録 | ||||||
ID登録 | 10.34413/dr.01275 | |||||
ID登録タイプ | JaLC | |||||
アクセス権 | ||||||
アクセス権 | open access | |||||
アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||
その他のタイトル | ||||||
その他のタイトル | 高効率結晶シリコン太陽電池作製に向けた室温レーザードーピングプロセスの開発 | |||||
言語 | ja | |||||
その他のタイトル | ||||||
その他のタイトル | コウコウリツ ケッショウ シリコン タイヨウ デンチ サクセイ ニ ムケタ シツオン レーザー ドーピング プロセス ノ カイハツ | |||||
言語 | ja-Kana | |||||
著者 |
西村, 英紀
× 西村, 英紀 |
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書誌情報 |
発行日 2015-03-24 |
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出版者 | ||||||
出版者 | Nara Institute of Science and Technology | |||||
言語 | en | |||||
著者版フラグ | ||||||
出版タイプ | VoR | |||||
出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
学位名 | ||||||
言語 | ja | |||||
学位名 | 博士(工学) | |||||
学位授与機関 | ||||||
学位授与機関識別子Scheme | kakenhi | |||||
学位授与機関識別子 | 14603 | |||||
言語 | ja | |||||
学位授与機関名 | 奈良先端科学技術大学院大学 | |||||
学位授与年月日 | ||||||
学位授与年月日 | 2015-03-24 | |||||
学位授与番号 | ||||||
学位授与番号 | 甲第1275号 | |||||
電子化ID | ||||||
値 | R011537 | |||||
電子化ID | ||||||
値 | R011576 |