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  1. 01 大学
  2. 08 科研費報告書

高品質シリコン薄膜の形成・新規評価技術の確立とそのディスプレイデバイスへの応用 : 平成23年度実績報告書

http://hdl.handle.net/10061/8326
http://hdl.handle.net/10061/8326
0ddc4fc4-34d8-4fe3-a700-1675cfdc8d6a
名前 / ファイル ライセンス アクション
R009450.pdf fulltext (333.6 kB)
アイテムタイプ 研究報告書 / Research Paper(1)
公開日 2012-09-11
タイトル
タイトル 高品質シリコン薄膜の形成・新規評価技術の確立とそのディスプレイデバイスへの応用 : 平成23年度実績報告書
タイトル
タイトル コウヒンシツ シリコン ハクマク ノ ケイセイ シンキ ヒョウカ ギジュツ ノ カクリツ ト ソノ ディスプレイ デバイスエノ オウヨウ
言語
言語 jpn
キーワード
主題Scheme Other
主題 薄膜トランジスタ
キーワード
主題Scheme Other
主題 多結晶シリコン薄膜
キーワード
主題Scheme Other
主題 レーザーアニール
キーワード
主題Scheme Other
主題 電気的欠陥
キーワード
主題Scheme Other
主題 Bio-LBL法
資源タイプ
資源タイプ research report
アクセス権
アクセス権 open access
著者 町田, 絵美

× 町田, 絵美

WEKO 2503

ja 町田, 絵美

ja-Kana マチダ, エミ

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書誌情報
発行日 2012
出版者
出版者 奈良先端科学技術大学院大学
科研費番号
値 10J08975
著者版フラグ
出版タイプ VoR
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Ver.1 2023-07-25 15:04:03.297470
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