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  1. 01 大学
  2. 08 科研費報告書

高品質シリコン薄膜の形成・新規評価技術の確立とそのディスプレイデバイスへの応用 : 平成22年度実績報告書

http://hdl.handle.net/10061/6619
http://hdl.handle.net/10061/6619
7d652729-2921-49de-a0c2-1dac3e66b1e8
名前 / ファイル ライセンス アクション
R008899.pdf fulltext (155.8 kB)
アイテムタイプ 研究報告書 / Research Paper(1)
公開日 2011-10-12
タイトル
タイトル 高品質シリコン薄膜の形成・新規評価技術の確立とそのディスプレイデバイスへの応用 : 平成22年度実績報告書
タイトル
タイトル コウヒンシツ シリコン ハクマク ノ ケイセイ シンキ ヒョウカ ギジュツ ノ カクリツ ト ソノ ディスプレイ デバイス エノ オウヨウ
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ research report
アクセス権
アクセス権 open access
著者 町田, 絵美

× 町田, 絵美

WEKO 2450

ja 町田, 絵美

ja-Kana マチダ, エミ

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書誌情報
発行日 2011
出版者
出版者 奈良先端科学技術大学院大学
科研費番号
値 10J08975
著者版フラグ
出版タイプ VoR
電子化ID
値 R008899
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Ver.1 2023-07-25 15:04:57.622137
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